TSMC рассчитывает использовать литографию EUV при освоении норм 5 нм
Комментируя <a href="http://www.ixbt.com/news/2016/07/15/kompanija-tsmc-otchitalas-za-vtoroj-kvartal-2016-goda.html" title="отчет за второй квартал 2016 года, содиректор TSMC Марк Лю (Mark Liu) рассказал о планах компании. До конца текущего десятилетия в TSMC надеются освоить производство полупроводниковой продукции по нормам 5 нм. При этом планируется использовать литографию с источниками жесткого ультрафиолетового излучения (EUV). По словам Марка Лю, к 2020 году эту технологию удастся …